研究設備

1.合成装置


熱CVD装置(6台、さらに3台増設中)

スパッタ装置(桜木理化学/芝浦メカトロニクス)

ロードロック式スパッタ装置(芝浦メカトロニクス i-Miller)

超高真空加熱装置(エイコー)

真空アニール装置(アルバック MILA-3000)
 

2.解析装置


SEM (日立ハイテクノロジーズ S-4800)EDS (ブルカー XFlash5060FQ)

AFM((ブルカー Nanoscope V)

ラマン分光器(東京インスツルメンツ Nanofinder 30)*
*共用装置(管理品)

ラマン分光器(日本分光 NRS-2100)

STM(RHK 400)

光学顕微鏡(ニコン ECLIPSE ME600)

近赤外PL測定装置(島津)

熱分析装置(ブルカー TG-DTA2000SA)

ガスクロマトグラフィー(アジレント 6890N)

UV-VIS-NIR分光器(日本分光 V-570)
   

3.デバイス作製・解析装置


ソースメジャーユニット(アジレント B1500A)温度可変真空プローバー(共和理研)

マスクアライナー(共和理研)

EB蒸着装置(ケニックス KB-750)

真空蒸着装置(アルバック VPC-400)

プラズマリアクター(ヤマト科学 PR500)

UVオゾンリアクター(フィルジェン UV253)