修了生

令和2年度
温 偉辰 (中島・王研博士)
Study on defect characterization of Ge gate stacks using deep-level transient spectroscopy
(DLTS法を用いたGeゲートスタックの欠陥評価に関する研究)
鹿子木 嘉城 (中島・王研修士)
Study on high quality gate stack on Ge with transition metal oxide
清水 昇 (中島・王研修士)
高品質Ge-on-Insulator 作製と電子デバイス応用に関する研究
菅田 桂輔 (中島・王研修士)
Ge 光素子の発光特性調査と発光強度向上に関する研究
令和元年度
井芹 健人 (中島・王研修士)
新規電子デバイス応用に向けたGeゲートスタックの低温形成に関する研究
岡 龍誠 (中島・王研修士)
3C-SiC上への高品質ゲートスタック形成とデバイス化に関する研究
薛 飛達 (中島・王研修士)
Ge-on-Insulator基板を用いた非対称金属/Ge/金属構造光素子の作製と素子間光通信の実証
平成30年度
前蔵 貴行 (中島・王研博士)
研究テーマ:Fabrication and evaluation of asymmetric metal/Ge/metal diodes for intra-chip optical interconnect
秋山 健太郎 (中島・王研修士)
研究テーマ:イットリウム酸化物を用いたGe MOS構造の高品質化に関する研究
後藤 太希 (中島・王研修士)
研究テーマ:非対称―金属/Ge/金属構造光素子の発行特性向上に関する研究
仲江 航平 (中島・王研修士)
研究テーマ:スマートカット法によるGe-on-Insulator基板の作製と高品質化に関する研究
平成29年度
板屋 航 (中島研修士)
研究テーマ:Ge-on-Insulator基板の作製とデバイス応用に関する研究
坂口 大成 (中島研修士)
研究テーマ:メタル・ソース/ドレイン型Ge-CMOSの高性能化に関する研究
田中 健太郎 (中島研修士)
研究テーマ:ULSIのチップ内光配線に向けたGe光素子の開発
平成28年度
永冨 雄太 (中島研博士)
研究テーマ:メタル・ソース/ドレイン型Ge-CMOSのためのデバイス化技術に関する研究
岡本 隼人 (中島研修士)
研究テーマ:金属/Ge接合の電気特性制御とその応用に関する研究
織田 知輝 (中島研修士)
研究テーマ:高性能メタル・ソース/ドレイン Ge-MOSFETの開発
本山 千里 (中島研修士)
研究テーマ:非対称-金属/Ge/金属構造光素子の高性能化
平成27年度
田中 慎太郎 (中島研修士)
研究テーマ:メタル・ソース/ドレイン型Ge-MOSFETの高性能化
前蔵 貴行 (中島研修士)
研究テーマ:Influences of metal/Ge contact and surface passivation on direct band gap light emission and detection for asymmetric metal/Ge/metal diodes
平成26年度
長岡 裕一 (中島研修士)
研究テーマ:原子層堆積法による高品質ゲートスタックの低温形成
山本 裕介 (中島研修士)
研究テーマ:p型3C-SiCへのMOS構造形成とGe上への低正孔障壁コンタクトの形成
平成25年度
亀沢 翔 (中島研修士)
研究テーマ:低障壁な金属/Geコンタクトを用いた電子・光デバイスの試作
永冨 雄太 (中島研修士)
研究テーマ:高性能Ge-MOSデバイスの為の高誘電率ゲートスタックの低温形成
村山 亮介 (中島研修士)
研究テーマ:高温動作CMOS実現に向けた3C-SiCの基盤技術に関する研究
平成24年度
山本 圭介 (中島研博士)
研究テーマ:高性能Ge-CMOSの為のデバイス化技術に関する研究
朝川 幸二朗 (中島研修士)
研究テーマ:TiN堆積によるSi結晶への超低電子障壁コンタクト形成
小島 秀太 (中島研修士)
研究テーマ:高性能Ge-MOSFETのための高誘電率ゲートスタックの低温形成
佐田 隆宏 (中島研修士)
研究テーマ:高性能メタル・ソース/ドレイン型Ge p-MOSFETの開発
平成23年度
坂本 敬太 (中島研修士)
研究テーマ:高性能Ge-MOSデバイスの為のゲートスタック構造の形成
原田 健司 (中島研修士)
研究テーマ:局所歪み導入によるMOSデバイスの高性能化
山中 武 (中島研修士)
研究テーマ:高性能Ge-MOSデバイスの開発
平成22年度
平山 佳奈 (中島研博士)
研究テーマ:高性能ULSIのためのGe-MOS構造形成に関する研究
井餘田 昌俊 (中島研修士)
研究テーマ:TiN堆積によるn形Ge結晶への低抵抗コンタクト形成
岩村 義明 (中島研修士)
研究テーマ:Ge上への高誘電率ゲートスタック構造の形成
上野 隆二 (中島研修士)
研究テーマ:高品質Ge-MOS構造の形成とデバイス応用
平成21年度
池浦 奨悟 (中島研修士)
研究テーマ:酸化濃縮法で作成したSiGe-On-Insulator基板中の欠陥制御
吉野 圭介 (中島研修士)
研究テーマ:Ge基板上への高品質ゲート絶縁膜の形成
平成20年度
吉良 渉 (中島研修士)
研究テーマ:Ge結晶への高誘電率ゲート絶縁膜形成
小嶋 慧 (中島研修士)
研究テーマ:絶縁膜上の半導体層および半導体/絶縁膜界面の電気的評価
真栄田 祐 (中島研修士)
研究テーマ:Ge結晶へのショットキーおよびpn接合形成
平成19年度
平山 佳奈 (中島研修士)
研究テーマ:Ge上の絶縁膜形成と電気的評価
梶原 誠生 (中島研修士)
研究テーマ:MOS構造に於けるメタルゲートの仕事関数制御
末廣 雄策 (中島研修士)
研究テーマ:Si及びGe-MISFET用高誘電率ゲート絶縁膜の形成
平成18年度
杉本 陽平 (中島研博士)
研究テーマ:ULSI用高誘電率ゲートスタック構造の形成に関する研究
石川 康之 (中島研修士)
研究テーマ:SOIウェーハに於ける基板とSOI層の欠陥評価
中野 喜崇 (中島研修士)
研究テーマ:固相成長法による多結晶GeおよびSiGe薄膜の低温形成
山本 圭介 (中島研修士)
研究テーマ:ULSI用高誘電率ゲートスタック構造の形成とデバイス特性
平成17年度
寺川 武士 (中島研博士)
研究テーマ:両面受光太陽電池製造における鉄ゲッタリングに関する研究
高田 秀樹 (中島研修士)
研究テーマ:接合過渡容量法によるSOIおよびSGOI基板の電気的評価
吉村 雄樹 (中島研修士)
研究テーマ:MOSFET用TaNゲート電極の形成とデバイス特性
平成16年度
Luu Hoai Nam (中島研博士)
研究テーマ:ECRプラズマ照射によるシリコン酸化膜と窒化膜の低温成長
安達 秀任 (中島研修士)
研究テーマ:次世代LSI用Hf系高誘電率絶縁膜の形成
上田 麻美 (中島研修士)
研究テーマ:次世代LSI用薄膜ＳＯＩウェーハの電気的評価
平成15年度
井谷 耕輔 (中島研修士)
研究テーマ:SOIウェーハ中の電気的活性欠陥の評価
杉本 陽平 (中島研修士)
研究テーマ:高品質多結晶シリコンの低温形成に関する研究
平成14年度
牧山 和也 (中島研修士)
研究テーマ:ECRプラズマによるSi酸化膜の形成と評価
平成13年度
Wang Junli (村岡研博士)
研究テーマ:電子サイクロトロン共鳴プラズマスパッタリングによるエピタキシャルSi薄膜の形成と評価
斉藤 大士(中島研修士)
研究テーマ:ポリシリコン薄膜の低温成長
野口 隆史(中島研修士)
研究テーマ:SOI構造Si薄膜の欠陥評価
平成12年度
森住 知典(内野研修士)
研究テーマ:有機ELデバイス用保護膜の開発
平成11年度
岩永 香奈子(村岡研修士)
研究テーマ:電子サイクロトロン共鳴プラズマスパッタリングによるエピタキシャルSi薄膜の形成と評価
平成10年度
境 直史(村岡研修士)
研究テーマ:電子サイクロトロン共鳴プラズマスパッタ法によるSiエピタキシャル薄膜の低温形成に関する研究
松尾 慎一郎(鶴島研修士)
研究テーマ:ECRプラズマを用いたSi酸化膜の低温成長におけるイオン照射効果及び基板バイアスの効果
平成9年度
Gao Dawei(村岡研博士)
研究テーマ:"Studies of deposition of high-quality silicon oxide and oxynitride films at low temperature using sputtering-type electron cyclotron resonance plasma"
柏崎 泰宏(村岡研修士)
研究テーマ:電子サイクロトロン共鳴プラズマスパッタ法によるシリコン酸窒化膜の低温形成
山本 光芳(鶴島研修士)
研究テーマ:ECRプラズマによるシリコン酸化膜の低温成長
平成8年度
芝田 圭市(鶴島研修士)
研究テーマ:ECRスパッタ法を用いた高品質シリコン酸化膜の低温形成
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