研究設備
1.合成装置
熱CVD装置(6台、さらに3台増設中) |
スパッタ装置(桜木理化学/芝浦メカトロニクス) |
ロードロック式スパッタ装置(芝浦メカトロニクス i-Miller) |
超高真空加熱装置(エイコー) |
真空アニール装置(アルバック MILA-3000) |
2.解析装置
SEM (日立ハイテクノロジーズ S-4800)EDS (ブルカー XFlash5060FQ) |
AFM((ブルカー Nanoscope V) |
ラマン分光器(東京インスツルメンツ Nanofinder 30) |
ラマン分光器(日本分光 NRS-2100) |
STM(RHK 400) |
光学顕微鏡(ニコン ECLIPSE ME600) |
近赤外PL測定装置(島津) |
熱分析装置(ブルカー TG-DTA2000SA) |
ガスクロマトグラフィー(アジレント 6890N) |
UV-VIS-NIR分光器(日本分光 V-570) |
3.デバイス作製・解析装置
ソースメジャーユニット(アジレント B1500A)温度可変真空プローバー(共和理研) |
マスクアライナー(共和理研) |
EB蒸着装置(ケニックス KB-750) |
真空蒸着装置(アルバック VPC-400) |
プラズマリアクター(ヤマト科学 PR500) |
UVオゾンリアクター(フィルジェン UV253) |