研究設備
１．合成装置
 熱CVD装置（6台、さらに3台増設中） |
 スパッタ装置（桜木理化学/芝浦メカトロニクス） |
 ロードロック式スパッタ装置（芝浦メカトロニクス i-Miller） |
 超高真空加熱装置（エイコー） |
 真空アニール装置（アルバック MILA-3000） |
２．解析装置
 SEM （日立ハイテクノロジーズ S-4800）EDS (ブルカー XFlash5060FQ) |
 AFM(（ブルカー Nanoscope V) |
 ラマン分光器（東京インスツルメンツ Nanofinder 30) |
 ラマン分光器（日本分光 NRS-2100） |
 STM（RHK 400） |
 光学顕微鏡（ニコン ECLIPSE ME600） |
 近赤外PL測定装置（島津） |
 熱分析装置（ブルカー TG-DTA2000SA） |
 ガスクロマトグラフィー（アジレント 6890N） |
 UV-VIS-NIR分光器（日本分光 V-570） |
３．デバイス作製・解析装置
 ソースメジャーユニット（アジレント B1500A）温度可変真空プローバー（共和理研） |
 マスクアライナー（共和理研） |
 EB蒸着装置（ケニックス KB-750） |
 真空蒸着装置（アルバック VPC-400） |
 プラズマリアクター（ヤマト科学 PR500） |
 UVオゾンリアクター（フィルジェン UV253） |