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原子層堆積(ALD)装置 / Atomic Layer Deposition (ALD) system

(株)スプリード SP561-AL / SPLEAD SP561-AL

気体ソースと酸化剤で反応成膜
試料サイズ: 最大4インチ
試料温度: 最大400℃, 到達真空度: 2×10-7 Torr(室温)
使用ソース:トリメチルアルミニウム(Al2O3成膜), エチルメチルアミノハフニウム(HfO2)
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